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解決方案

行業(yè)概述

半導(dǎo)體制造涉及一系列不同工藝步驟，在半導(dǎo)體的制造工藝中想鹰，器件的不良率很大程度由污染造成。在超純水药版、電子化學(xué)品辑舷、電子特氣、硅片等各個環(huán)節(jié)槽片，均需進(jìn)行嚴(yán)格的環(huán)境污染管控及污染物檢測何缓。如果您需要測量半導(dǎo)體制造中所用化學(xué)品中的金屬雜質(zhì)，或者測試硅晶片或最終元件中的金屬污染物还栓，萊伯泰科為您提供靈敏黑声、穩(wěn)定埂体、強(qiáng)健的分析方法滿足您的需求。萊伯泰科為半導(dǎo)體行業(yè)中各種樣品的痕量元素分析提供解決方案失能，這些樣品包括單晶硅片洛续、太陽能光伏硅片、高純制程化學(xué)品饵臀、超純水绞宿、有機(jī)試劑和光阻材料等。萊伯泰科的研發(fā)和技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)提供了專門用于滿足半導(dǎo)體行業(yè)需求的單四極桿和串聯(lián)四極桿 ICP-MS 系統(tǒng)愕啰。

行業(yè)解決方案

多晶硅基體金屬雜質(zhì)檢測

電子級多晶硅金屬雜質(zhì)含量是評價(jià)其產(chǎn)品質(zhì)量的重要指標(biāo)之一津霜，其雜質(zhì)含量的高低直接影響下游晶圓制造產(chǎn)品質(zhì)量，所以對其金屬雜質(zhì)含量的控制至關(guān)重要温盅。萊伯泰科提供可靠、易用的 ICP-MS產(chǎn)品梢拜，擁有良好的精度改耽，可實(shí)現(xiàn)多晶硅金屬元素雜質(zhì)準(zhǔn)確分析，確保制造商始終能夠生產(chǎn)出高品質(zhì)的產(chǎn)品叁巨。

硅片表面金屬雜質(zhì)檢測

硅片是半導(dǎo)體制造業(yè)的基礎(chǔ)材料斑匪，硅片表面極其少量的金屬雜質(zhì)元素污染都可能造成器件的功能喪失或者可靠性變差，隨著半導(dǎo)體制程的不斷提高锋勺，對金屬離子污染物的控制也越來越嚴(yán)格蚀瘸。萊伯泰科提供了融合穩(wěn)定、可靠庶橱、高靈敏度的ICP-MS產(chǎn)品贮勃，幫助半導(dǎo)體制造商在生產(chǎn)過程中執(zhí)行檢測并減少污染，即使在高基質(zhì)環(huán)境下苏章，也可對晶圓制造的每個階段中的金屬雜質(zhì)類型寂嘉、來源和含量進(jìn)行準(zhǔn)確的檢測。此外枫绅，萊伯泰科的經(jīng)驗(yàn)豐富的工程師們將作為硅片生產(chǎn)企業(yè)及Fab工廠的堅(jiān)實(shí)后盾泉孩，提供多方位技術(shù)支持。

濕電子化學(xué)品金屬雜質(zhì)檢測

在半導(dǎo)體工業(yè)中并淋，嚴(yán)格控制半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中所使用的濕電子化學(xué)品中的金屬雜質(zhì)寓搬，對于實(shí)現(xiàn)所需的產(chǎn)品性能和產(chǎn)量至關(guān)重要。隨著半導(dǎo)體器件性能的持續(xù)提高县耽，對雜質(zhì)的控制要求也更加嚴(yán)格盲妈。萊伯泰科研發(fā)生產(chǎn)的穩(wěn)定、可靠的ICP-MS產(chǎn)品早斯，可為濕電子化學(xué)品金屬雜質(zhì)含量檢測提供有效手段杜戈。

金屬污染物在線監(jiān)測

萊伯泰科的 ICP-MS 產(chǎn)品可與多家供應(yīng)商的自動化在線半導(dǎo)體制程化學(xué)品監(jiān)測系統(tǒng)集成赫窄。在化學(xué)品供應(yīng)中心、分配過程以及使用過程中拉拨，對制程化學(xué)品中的金屬雜質(zhì)進(jìn)行監(jiān)測臭脯。實(shí)時在線監(jiān)測能夠在工藝的各階段迅速檢測到金屬污染，從而完成快速評估正等待從貯罐卸載的化學(xué)品的質(zhì)量的檢測和生產(chǎn)需求旦坷。

相關(guān)產(chǎn)品

全自動消解儀

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS 3000 ICP-MS

ultraWAVE 超級微波消解系統(tǒng)

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