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硅片表面金屬雜質(zhì)檢測

硅片是半導(dǎo)體制造業(yè)的基礎(chǔ)材料，硅片表面極其少量的金屬雜質(zhì)元素污染都可能造成器件的功能喪失或者可靠性變差耗鲸，隨著半導(dǎo)體制程的不斷提高她忱，對金屬離子污染物的控制也越來越嚴(yán)格硼琢。萊伯泰科提供了融合穩(wěn)定梗力、可靠踪启、高靈敏度的ICP-MS產(chǎn)品弛针，幫助半導(dǎo)體制造商在生產(chǎn)過程中執(zhí)行檢測并減少污染统抬，即使在高基質(zhì)環(huán)境下冀宴，也可對晶圓制造的每個階段中的金屬雜質(zhì)類型灭贷、來源和含量進行準(zhǔn)確的檢測温学。此外，萊伯泰科的經(jīng)驗豐富的工程師們將作為硅片生產(chǎn)企業(yè)及Fab工廠的堅實后盾甚疟，提供多方位技術(shù)支持仗岖。

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